高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器プロセス加工
国立研究開発法人産業技術総合研究所(東京都)/役務
締切
05/25
2026年
開札
非公表
公告日
04/14
2026年
予定価格
非公表
この案件は公表されていません
基本情報
- 発注機関
- 国立研究開発法人産業技術総合研究所
- 所在地
- 東京都
- 入札方式
- 役務
- データの出どころ
- 官公需情報ポータルサイト
- 取得日時
- 2026/07/22 06:51
入札への参加・仕様書の取得は発注機関の公式サイトで行えます
元サイトで確認 →
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