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役務

高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器プロセス加工

公告日：2026/04/14 締切：2026/05/25
予定価格
非公表
締切日
5月25日
公告日
4月14日
2026年
基本情報
発注機関
国立研究開発法人産業技術総合研究所
所在地
東京都
入札方式
役務
データソース
官公需情報ポータルサイト
取得日時
2026/07/22 06:51
出典
官公需情報ポータルサイト ／ 発注機関：国立研究開発法人産業技術総合研究所
元サイトで確認 →
入札への参加・仕様書の取得は発注機関の公式サイトで行えます 元サイトで確認 →
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